英伟达携手台积电让芯片计算光刻加速40倍以上

英伟达携手台积电让芯片计算光刻加速40倍以上

3月21日晚间，英伟达春季GTC技术大会召开，英伟达宣布推出cuLitho软件加速库，可以将计算光刻的用时提速40倍。所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光将图案转移到光刻胶层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶层上，实施芯片光刻。

因为每种芯片都要经历多次曝光，所以光刻中使用的掩膜数量不尽相同。NVIDIA H100（台积电4N工艺，800亿晶体管）需要89张掩膜，Intel的14nm CPU需要50多张掩膜。此前“精雕细琢”的计算光刻依赖CPU服务器集群，现在NVIDIA表示，500套DGX H100（包含4000颗Hopper GPU）可完成与4万颗CPU运算服务器相同的工作量，但速度快40倍，功耗低9倍。